A| B| C| D| E| F| G| H| I| J| K| L| M| N| O| P| Q| R| S| T| U| V| W| X| Y| Z| 0-9

Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử

Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử

Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử

  • Nhan đề :
  • Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
  • Tác giả :
  • Lương Thị Kim Phượng
  • Năm xuất bản :
  • 2018
  • Nhà Xuất bản :
  • Từ khóa :
  • Đế silic,Kỹ thuật MBF,Bốc bay nhiệt,Nhiễm bẩn carbon,Oxit SiO2
  • Số trang :
  • tr. 57-62
Tải file tóm tắt Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử

File Tóm tắt

Online: 375
Lượt truy cập: 11,226,108
Số lượt tải: 1,833,407
})