Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
- Nhan đề :
-
Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
- Tác giả :
-
Lương Thị Kim Phượng
- Từ khóa :
-
Đế silic,Kỹ thuật MBF,Bốc bay nhiệt,Nhiễm bẩn carbon,Oxit SiO2
Tải file tóm tắt
Phương pháp xử lý bề mặt đế silic ở nhiệt độ thấp ứng dụng trong kỹ thuật tăng trưởng Epitaxy chùm phân tử
